[发明专利]成膜装置和成膜方法

摘要

本发明涉及成膜装置和成膜方法。提供能够形成高品质的半导体膜的技术。本公开的一技术方案的成膜装置具有：旋转台，其设于真空容器内；载置台，其沿着所述旋转台的周向设置，用于载置基板；处理区域，在该处理区域，朝向所述旋转台的上表面供给处理气体；热处理区域，其沿着所述旋转台的周向与所述处理区域分离开地配置，在该热处理区域，以比所述处理区域的温度高的温度对所述基板进行热处理；以及冷却区域，其沿着所述旋转台的周向与所述热处理区域分离开地配置，在该冷却区域，冷却所述基板。