[发明专利]用于电催化小分子氧化耦合制氢的水滑石纳米片阵列的原位剥层方法有效
| 申请号： | 202110099787.1 | 申请日： | 2021-01-25 |
| 公开（公告）号： | CN112928271B | 公开（公告）日： | 2022-07-05 |
| 发明（设计）人： | 邵明飞;宋英杰;栗振华;卫敏 | 申请（专利权）人： | 北京化工大学 |
| 主分类号： | H01M4/485 | 分类号： | H01M4/485;H01M4/525;H01M10/052;C25B11/04;C25B1/04;C25B3/23 |
| 代理公司： | 天津市尚仪知识产权代理事务所(普通合伙) 12217 | 代理人： | 邓琳 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于电催化小分子氧化耦合制氢的水滑石纳米片阵列的原位剥层方法，所述方法包括：(Ⅰ)水滑石纳米片阵列的水热生长；(Ⅱ)滑石纳米片阵列的电化学原位剥层等步骤。本发明提供了一种采用简单快速的水滑石纳米片阵列电化学原位剥层的较为普适的方法，采用本发明方法制备的超薄水滑石纳米片阵列可用于电催化小分子氧化耦合制氢等多种清洁能源储存与转化领域；合成步骤快速温和，剥层方法条件温和，操作简便，剥层后的超薄LDHs纳米片活性高，稳定性好。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 电催化 分子 氧化 耦合 滑石 纳米 阵列 原位 方法 | ||
【主权项】：
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