[发明专利]一种用于底涂液体稳定供料的系统在审
申请号: | 202110101469.4 | 申请日: | 2021-01-26 |
公开(公告)号: | CN112623301A | 公开(公告)日: | 2021-04-09 |
发明(设计)人: | 韦攀攀;刁德勇 | 申请(专利权)人: | 上海维誉自动化设备有限公司 |
主分类号: | B65B3/12 | 分类号: | B65B3/12;B65B3/26;B01F13/08;G01F23/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 201800 上海市嘉定*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种用于底涂液体稳定供料的系统,包括磁力搅拌器、底涂瓶固定块、电容式传感器、底涂瓶、供料软管、蠕动泵、管道出料口阀门膜片式气缸、底涂头、聚四氟乙烯板、电感式落料检测开关、底涂回收容器、磁力搅拌器转子、软管阀门挤压块和检测开关,所述磁力搅拌器顶部设置有底涂瓶固定块,所述底涂瓶固定块的顶部设置有底涂瓶,本发明具有以下有益效果,通过设置磁力搅拌器,设置合适转速,搅动底涂瓶内的底涂液体,防止沉淀,可用于容易沉淀的液体供料,通过设置检测开关检测,可准确检测液体低液位并发出报警,通过设置落料检测开关检测可准确检测底涂液体是否填充完毕,避免浪费和填充不足。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 液体 稳定 供料 系统 | ||
【主权项】:
暂无信息
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