[发明专利]紫外发光二极管外延片及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202110103258.4 申请日: 2021-01-26
公开(公告)号: CN112951955B 公开(公告)日: 2023-03-14
发明(设计)人: 刘旺平;梅劲;葛永晖;刘春杨;张武斌 申请(专利权)人: 华灿光电(浙江)有限公司
主分类号: H01L33/06 分类号: H01L33/06;H01L33/32;H01L33/02;H01L33/00
代理公司: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 代理人: 吕耀萍
地址: 322000 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 本公开提供了一种紫外发光二极管外延片及其制备方法,属于发光二极管技术领域。p型AlGaN层上层叠包括氮极性AlGaN子层与镓极性AlGaN子层的p型复合欧姆接触层,氮极性AlGaN子层的极性与p型AlGaN层的极性相反,二者所产生的耗尽电场和外延层中自发产生的极化电场的方向相同,缩短耗尽区的宽度,获得低欧姆接触电阻,较低开启电压有利于缓解量子限制斯塔克效应,提高紫外发光二极管的发光效率。稳定的镓极性AlGaN子层作为过渡层连接p型AlGaN层与后续的电极或其他外延结构,有效提高p型复合欧姆接触层整体的质量,最终得到的紫外发光二极管的发光效率得到有效提高。
搜索关键词: 紫外 发光二极管 外延 及其 制备 方法
【主权项】:
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