[发明专利]紫外发光二极管外延片及其制备方法有效
申请号: | 202110103258.4 | 申请日: | 2021-01-26 |
公开(公告)号: | CN112951955B | 公开(公告)日: | 2023-03-14 |
发明(设计)人: | 刘旺平;梅劲;葛永晖;刘春杨;张武斌 | 申请(专利权)人: | 华灿光电(浙江)有限公司 |
主分类号: | H01L33/06 | 分类号: | H01L33/06;H01L33/32;H01L33/02;H01L33/00 |
代理公司: | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人: | 吕耀萍 |
地址: | 322000 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本公开提供了一种紫外发光二极管外延片及其制备方法,属于发光二极管技术领域。p型AlGaN层上层叠包括氮极性AlGaN子层与镓极性AlGaN子层的p型复合欧姆接触层,氮极性AlGaN子层的极性与p型AlGaN层的极性相反,二者所产生的耗尽电场和外延层中自发产生的极化电场的方向相同,缩短耗尽区的宽度,获得低欧姆接触电阻,较低开启电压有利于缓解量子限制斯塔克效应,提高紫外发光二极管的发光效率。稳定的镓极性AlGaN子层作为过渡层连接p型AlGaN层与后续的电极或其他外延结构,有效提高p型复合欧姆接触层整体的质量,最终得到的紫外发光二极管的发光效率得到有效提高。 | ||
搜索关键词: | 紫外 发光二极管 外延 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华灿光电(浙江)有限公司,未经华灿光电(浙江)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110103258.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种粉床3D打印的快速冷却装置及系统
- 下一篇:一种多反射干涉自动测量系统