[发明专利]一种减少硅污染的多晶料合成方法在审

专利信息
申请号: 202110106448.1 申请日: 2021-01-26
公开(公告)号: CN113005515A 公开(公告)日: 2021-06-22
发明(设计)人: 许振华;李勇 申请(专利权)人: 威科赛乐微电子股份有限公司
主分类号: C30B28/06 分类号: C30B28/06;C30B29/42
代理公司: 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 代理人: 张晨
地址: 404040 重庆*** 国省代码: 重庆;50
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种减少硅污染的多晶料合成方法,涉及多晶合成技术领域。本发明的一种减少硅污染的多晶料合成方法,所述合成方法具体为:将垫板和氮化硼盖板分别放置于稼容器的底部和容器口,然后将稼容器推入石英管管尾,在石英管中放入砷容器,对石英管抽真空,焊接密封,采用分段加热进行多晶料的合成。本发明公开了一种减少硅污染的多晶料合成方法,能够有效的降低合成的砷化镓多晶中硅含量,且得到产品性能大幅提升,满足半绝缘半导体的生产需要。
搜索关键词: 一种 减少 污染 多晶 合成 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于威科赛乐微电子股份有限公司,未经威科赛乐微电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110106448.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top