[发明专利]一种阵列基板制程方法、阵列基板及显示面板有效
| 申请号： | 202110107464.2 | 申请日： | 2021-01-27 |
| 公开（公告）号： | CN112909214B | 公开（公告）日： | 2023-01-24 |
| 发明（设计）人： | 吴永伟 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | H10K71/00 | 分类号： | H10K71/00;H10K71/20;H10K59/38;H01L27/15;H01L33/50 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 远明 |
| 地址： | 518132 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种阵列基板制程方法、阵列基板及显示面板，该阵列基板制程方法是在钙钛矿层上设置嵌段共聚物，对嵌段共聚物层进行图案化处理，并激发钙钛矿层发光。利用嵌段共聚物层的图案化，实现钙钛矿膜层的图案化发光。另外，由于本申请提供的阵列基板制程方法并不是直接将钙钛矿层图案化，而是利用嵌段共聚物层的图案化以实现钙钛矿的图案化发光，因此钙钛矿层保持了完整性，能够有效地提升钙钛矿层的稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 阵列 基板制程 方法 显示 面板 | ||
【主权项】：
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