[发明专利]一种RF MEMS开关的原位薄膜封装方法在审

专利信息
申请号: 202110108281.2 申请日: 2021-01-27
公开(公告)号: CN112919405A 公开(公告)日: 2021-06-08
发明(设计)人: 王俊强;曹钎龙;李孟委;吴倩楠;余建刚 申请(专利权)人: 中北大学南通智能光机电研究院
主分类号: B81C1/00 分类号: B81C1/00;H01H49/00;H01H59/00
代理公司: 太原荣信德知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 14119 代理人: 杨凯;连慧敏
地址: 226000 江苏省南*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明属于射频微电子机械系统封装技术领域,具体涉及一种RF MEMS开关的原位薄膜封装方法,包括下列步骤:提供一未释放牺牲层的RF MEMS开关晶圆,在衬底上完成信号线和悬臂梁的结构的制作;对晶圆进行第一次匀胶、光刻、显影工艺;在晶圆上沉积一层薄膜;对晶圆进行第二次匀胶、光刻工艺,并留出释放孔位置;对释放孔位置进行刻蚀工艺;进行氧气等离子体工艺;再次沉积一层薄膜。本发明通过在未释放晶圆上,通过两次匀胶、两次光刻、两次镀膜工艺实现开关的原位薄膜封装工艺,并且本发明采用氩气等离子实现释放孔的刻蚀,采用氧等离子体实现牺牲层的释放,能够保证开关的射频性能,同时提高开关的工作可靠性。本发明用于RF MEMS开关的原位薄膜封装。
搜索关键词: 一种 rf mems 开关 原位 薄膜 封装 方法
【主权项】:
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