[发明专利]基于直立式二维薄膜材料的光电探测器及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202110112005.3 申请日: 2021-01-27
公开(公告)号: CN112820787A 公开(公告)日: 2021-05-18
发明(设计)人: 陈志勇;陈明;杨春雷;童佩斐;李国啸 申请(专利权)人: 深圳先进技术研究院
主分类号: H01L31/0352 分类号: H01L31/0352;H01L31/032;H01L31/108;H01L31/18
代理公司: 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 代理人: 孙伟峰;刘燚圣
地址: 518055 广东省深圳*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开一种直立式二维薄膜材料的光电探测器及其制备方法。制备方法包括:在基底上制作形成第一电极层;在所述第一电极层上制作形成纳米片阵列,所述纳米片阵列由直立式二维半导体材料形成,所述纳米片与纳米片之间具有一定的间隙,在所述纳米片阵列上进行匀胶,以在所述纳米片阵列的间隙中形成绝缘胶层,且所述绝缘胶层设置于所述间隙暴露的第一电极层上;在所述纳米片阵列和所述绝缘胶层上制作形成第二电极层。制作形成直立式的纳米片阵列,3D直立式纳米片阵列具有较好的陷光效应,极大提高探测器的外量子效率及光响应度,在纳米片阵列的间隙中设置绝缘胶层,避免上下两电极层通过间隙直接发生导通,从而保证光电探测器的稳定性与可行性。
搜索关键词: 基于 立式 二维 薄膜 材料 光电 探测器 及其 制备 方法
【主权项】:
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