[发明专利]基于直立式二维薄膜材料的光电探测器及其制备方法在审
申请号: | 202110112005.3 | 申请日: | 2021-01-27 |
公开(公告)号: | CN112820787A | 公开(公告)日: | 2021-05-18 |
发明(设计)人: | 陈志勇;陈明;杨春雷;童佩斐;李国啸 | 申请(专利权)人: | 深圳先进技术研究院 |
主分类号: | H01L31/0352 | 分类号: | H01L31/0352;H01L31/032;H01L31/108;H01L31/18 |
代理公司: | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 | 代理人: | 孙伟峰;刘燚圣 |
地址: | 518055 广东省深圳*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开一种直立式二维薄膜材料的光电探测器及其制备方法。制备方法包括:在基底上制作形成第一电极层;在所述第一电极层上制作形成纳米片阵列,所述纳米片阵列由直立式二维半导体材料形成,所述纳米片与纳米片之间具有一定的间隙,在所述纳米片阵列上进行匀胶,以在所述纳米片阵列的间隙中形成绝缘胶层,且所述绝缘胶层设置于所述间隙暴露的第一电极层上;在所述纳米片阵列和所述绝缘胶层上制作形成第二电极层。制作形成直立式的纳米片阵列,3D直立式纳米片阵列具有较好的陷光效应,极大提高探测器的外量子效率及光响应度,在纳米片阵列的间隙中设置绝缘胶层,避免上下两电极层通过间隙直接发生导通,从而保证光电探测器的稳定性与可行性。 | ||
搜索关键词: | 基于 立式 二维 薄膜 材料 光电 探测器 及其 制备 方法 | ||
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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