[发明专利]掩膜版的清洁装置在审
| 申请号： | 202110115470.2 | 申请日： | 2021-01-28 |
| 公开（公告）号： | CN112731762A | 公开（公告）日： | 2021-04-30 |
| 发明（设计）人： | 赵晗 | 申请（专利权）人： | 长江存储科技有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F1/82 | 分类号： | G03F1/82;B08B5/02;B08B5/04;B08B13/00 |
| 代理公司： | 北京成创同维知识产权代理有限公司 11449 | 代理人： | 岳丹丹 |
| 地址： | 430074 湖北省武汉*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请公开了一种掩膜版的清洁装置，包括：观察摄像机，对掩膜版表面拍照，以获取掩膜版上异物的位置信息；氮气喷嘴，位于掩膜版表面的下方，根据异物的位置信息对掩膜版表面的异物进行吹扫；以及抽气装置，位于掩膜版表面的下方，从吹扫的异物处抽取氮气喷嘴喷出的氮气以去除掩膜版表面的异物并排出；控制单元，用于当观察摄像机拍摄到掩膜版上存在异物时，控制氮气喷嘴向掩膜版表面喷出氮气以及控制抽气装置从掩膜版表面抽取氮气。本申请采用定位清洁的方式，其吹扫范围更精确，在保持氮气喷嘴风压不变的前提下，减小了掩膜版受吹扫影响的面积，并且采用抽气装置提升去除掩膜版表面的异物的成功率，进而提升了掩膜版的可靠性。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜版 清洁 装置 | ||
【主权项】：
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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