[发明专利]光罩杂质去除设备和光罩杂质去除方法有效
| 申请号： | 202110126225.1 | 申请日： | 2021-01-29 |
| 公开（公告）号： | CN112934859B | 公开（公告）日： | 2022-06-07 |
| 发明（设计）人： | 韩露露;贺遵火;吴仕伟;谢发政 | 申请（专利权）人： | 泉意光罩光电科技（济南）有限公司 |
| 主分类号： | B08B7/00 | 分类号： | B08B7/00 |
| 代理公司： | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人： | 刘曾 |
| 地址： | 250000 山东省济南市高新区经十路7*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明的实施例提供了一种光罩杂质去除设备和光罩杂质去除方法，涉及半导体技术领域，光罩杂质去除设备包括黏胶棒、升降机构和承载盘，承载盘用于放置光罩，黏胶棒与升降机构传动连接，并与承载盘相对设置，升降机构设置在承载盘的一侧，用于带动黏胶棒靠近或者远离光罩，黏胶棒用于粘附光罩表面的杂质。相较于现有技术，本发明提供了一种新型的杂质去除方式，能够有效粘走杂质微粒，避免了由于静电吸附导致的杂质去除不彻底的情况，同时，无需额外设置复杂的吹扫机构和滴液辅助结构，操作过程简单，简化了杂质去除流程。 | ||
| 搜索关键词： | 杂质 去除 设备 方法 | ||
【主权项】：
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