[发明专利]一种噻吩选择性二硒化钼垂直石墨烯杂化膜及其制备方法、分离噻吩的方法有效
申请号: | 202110134551.7 | 申请日: | 2021-01-29 |
公开(公告)号: | CN112933985B | 公开(公告)日: | 2022-07-26 |
发明(设计)人: | 兰永强;彭平 | 申请(专利权)人: | 三明学院 |
主分类号: | B01D61/36 | 分类号: | B01D61/36;B01D67/00;B01D69/12;B01D71/34;B01D71/70;C07D333/10 |
代理公司: | 厦门智慧呈睿知识产权代理事务所(普通合伙) 35222 | 代理人: | 杨唯 |
地址: | 365000 福*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 本发明提供一种噻吩选择性二硒化钼垂直石墨烯杂化膜及其制备方法、分离噻吩的方法,该杂化膜的制备为:采用表面活性剂定向的水热合成反应合成二硒化钼垂直石墨烯纳米复合材料,并将该纳米复合材料掺入原位聚合的聚二甲基硅氧烷中,得到杂化膜。本发明中的二硒化钼垂直石墨烯纳米复合材料具有多层次的纳米阵列和高比表面积,能够提高杂化膜内部的自由体积以及为噻吩提供更多的促进传递位点,将该杂化膜用于分离噻吩和正辛烷混合液,能达到较好的分离效果。 | ||
搜索关键词: | 一种 噻吩 选择性 二硒化钼 垂直 石墨 烯杂化膜 及其 制备 方法 分离 | ||
【主权项】:
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