[发明专利]半导体结构在审

专利信息
申请号: 202110136660.2 申请日: 2021-02-01
公开(公告)号: CN113130483A 公开(公告)日: 2021-07-16
发明(设计)人: 潘冠廷;苏焕杰;游家权;朱熙甯;江国诚;詹易叡;庄礼阳;王志豪 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/088 分类号: H01L27/088;H01L21/8234
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 黄艳
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 半导体结构包括多个鳍状结构,沿着第一方向延伸;多个栅极结构部件,沿着第二方向延伸,第二方向正交于第一方向,其中栅极结构部件隔有多个虚置鳍状结构。半导体结构还包括导电层,位于栅极结构部件与虚置鳍状结构上,以电性连接至少一些栅极结构部件;以及切割结构,对准虚置鳍状结构的一者,以电性隔离虚置鳍状结构的一者的两侧上的栅极结构部件。
搜索关键词: 半导体 结构
【主权项】:
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