[发明专利]一种MWDM滤光片薄膜制作方法在审

专利信息
申请号: 202110137361.0 申请日: 2021-02-01
公开(公告)号: CN112962074A 公开(公告)日: 2021-06-15
发明(设计)人: 陈国彦;曹华燕;周培;伍梓辉 申请(专利权)人: 深圳正和捷思科技有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/08;C23C14/10;G02B1/10;G02B5/20
代理公司: 深圳智趣知识产权代理事务所(普通合伙) 44486 代理人: 崔艳峥
地址: 518000 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供一种MWDM滤光片薄膜制作方法,包括下列步骤:对玻璃基板进行清洗,在玻璃基板上加上100~300V的负偏压,通过平面磁控溅射沉积技术对玻璃基板进行镀膜,在溅射过程中,靶为平面阴极,平行在平面阴极上面的磁场将自由电子限制在阴极靶材表面,离子源将氩气电离为氩离子,进而轰击靶表面,溅射出来的材料再与氧气结合形成氧化物,生成的氧化物再快速沉积在玻璃基板上形成光学薄膜,光学薄膜的膜系为TA2O5材料及SIO2材料相交替叠加,同时利用计算机进行光量值控制,再对玻璃基板的非镀膜面进行研磨抛光和切割。与现有技术相比,本发明能匹配出满足光谱特性的MWDM滤光片,明显改善MWDM滤光片产品单炉的成功率,由原来的20%的成功率提升到60%,实现批量生产。
搜索关键词: 一种 mwdm 滤光 薄膜 制作方法
【主权项】:
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