[发明专利]阵列基板及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202110140681.1 申请日: 2021-02-02
公开(公告)号: CN112951848B 公开(公告)日: 2023-04-07
发明(设计)人: 罗善高 申请(专利权)人: TCL华星光电技术有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 王红红
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 本申请公开了一种阵列基板,包括基板;导电遮光层,设于所述基板上;缓冲层,设于所述基板上且覆盖所述导电遮光层,所述缓冲层具有一第一槽孔,所述第一槽孔从所述缓冲层远离所述基板的一面贯穿至所述导电遮光层的表面;有源层,设于所述缓冲层上且延伸至所述第一槽孔内,所述有源层通过所述第一槽孔与所述导电遮光层连接。通过第一槽孔将所述源极与所述有源层、所述导电遮光层相互连接,有利于提升所述源极与所述有源层、所述导电遮光层连接的稳定性,使得所述源极与所述有源层、所述导电遮光层在通电时保持在同一电位上,有效提升薄膜晶体管(TFT)的工作稳定性,且保证所述导电遮光层对所述有源层的遮光效果。
搜索关键词: 阵列 及其 制备 方法
【主权项】:
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