[发明专利]一种266纳米高功率激光增透膜及其制备方法在审
申请号: | 202110142035.9 | 申请日: | 2021-02-02 |
公开(公告)号: | CN112782791A | 公开(公告)日: | 2021-05-11 |
发明(设计)人: | 王泽栋;李全民;李林峰;王国力 | 申请(专利权)人: | 南京波长光电科技股份有限公司 |
主分类号: | G02B1/115 | 分类号: | G02B1/115 |
代理公司: | 南京中律知识产权代理事务所(普通合伙) 32341 | 代理人: | 李建芳 |
地址: | 211121 江苏省南*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种266纳米高功率激光增透膜及其制备方法,一种266纳米高功率激光增透膜,膜层结构为:A/cL/bH/aL/SUB/aL/bH/cL/A,其中,SUB代表玻璃基底;A代表空气;H代表高折射率膜层;L代表低折射率膜层;a﹑b﹑c分别为各膜层的四分之一参考波长光学厚度的系数,a为1.6±0.2,b为0.53±0.2,c为1.13±0.2。本发明266纳米高功率激光增透膜,在紫外波段具有高抗激光损伤阈值,该增透膜在266nm波段处透过率可达99.9%以上,既有良好的光谱性能又有较好的机械稳性能和稳定性,可满足目前近紫外领域的一些高端应用。 | ||
搜索关键词: | 一种 266 纳米 功率 激光 增透膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
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