[发明专利]一种板级GaN半桥功率器件及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202110146626.3 申请日: 2021-02-03
公开(公告)号: CN112967932A 公开(公告)日: 2021-06-15
发明(设计)人: 赵铁良;樊嘉杰;张国旗 申请(专利权)人: 复旦大学
主分类号: H01L21/48 分类号: H01L21/48;H01L23/498;H01L27/088
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 代理人: 陆惠中;赵旭
地址: 200433 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了板级GaN半桥功率器件及其制备方法,属于电气领域,方法包括:S1获取包括金属芯板和绝缘底板的PCB板;S2在金属芯板的顶面加工出第一图形,在第一图形上生长金属形成第一图形层;S3将GaN MOS Die固定在第一图形层上;S4将铜箔通过固化片压合在固晶后的PCB板的顶面上;S5在铜箔上钻孔,且钻孔的深度止于GaN MOS Die或金属芯板;S6通过生长金属填平钻孔;S7在铜箔上加工出第二图形,在第二图形上生长金属形成第二图形层;S8将驱动IC及被动元件固定在第二图形层上;S9从顶面压合绝缘顶板进行顶面密封;S10去除绝缘底板,在金属芯板的底面加工出第三图形,在第三图形上生长金属形成与铜箔连接的第三图形层。本发明能够提高加工效率,还能够降低寄生电感。
搜索关键词: 一种 gan 功率 器件 及其 制备 方法
【主权项】:
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