[发明专利]高纯度低羟基高均匀性石英玻璃的化学沉积方法及装置在审
| 申请号： | 202110150255.6 | 申请日： | 2021-02-03 |
| 公开（公告）号： | CN112876044A | 公开（公告）日： | 2021-06-01 |
| 发明（设计）人： | 杨金鑫;肖华;郑勇;钟嫒;吴龙波;李凯;翟国华;巫维捷;刘宝;任其广 | 申请（专利权）人： | 江苏亨通智能科技有限公司;江苏亨通光导新材料有限公司 |
| 主分类号： | C03B20/00 | 分类号： | C03B20/00;C03B8/04 |
| 代理公司： | 苏州睿昊知识产权代理事务所(普通合伙) 32277 | 代理人： | 陈华红子 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： |
本发明涉及一种高纯度低羟基高均匀性石英玻璃的化学沉积方法，包括：(1)在沉积腔体内，采用气相轴向沉积法将硅源沉积得到低密度SiO |
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| 搜索关键词： | 纯度 羟基 均匀 石英玻璃 化学 沉积 方法 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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