[发明专利]静电喷射喷头阵列的电场分布控制装置、方法、设备及计算机存储介质有效
| 申请号： | 202110157097.7 | 申请日： | 2021-02-04 |
| 公开（公告）号： | CN112958305B | 公开（公告）日： | 2021-11-16 |
| 发明（设计）人： | 黄玉娟;陈雪 | 申请（专利权）人： | 南京微毫科技有限公司 |
| 主分类号： | B05B5/00 | 分类号： | B05B5/00;B05B5/025;B05B15/68 |
| 代理公司： | 南京泰普专利代理事务所(普通合伙) 32360 | 代理人： | 张磊 |
| 地址： | 211100 江苏省南京市麒*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提出一种静电喷射喷头阵列的电场分布控制装置、方法、设备及计算机存储介质，该装置包括移动平台及平台上的喷射基底、高压直流电源、射流观察成像系统、液体存储和输送装置、静电喷射喷头阵列、电场分布调节金属环和调节环外加高压电源。本发明利用高度、位置、形状可以调节的电场分布调节金属环来调节得到所需要得到的电场分布，一般是使得每个喷头周围的电场分布都基本均匀一致，从而得到高度一致的多路阵列的静电喷射，尤其是可以控制边缘喷头的喷射射流的方向使之克服中间喷头电场和射流的排斥力得到垂直向下的静电喷射。本发明控制系统具有实用性高、控制精准、简单易行的优点，在工业化生产中具有很大的应用潜力。 | ||
| 搜索关键词： | 静电 喷射 喷头 阵列 电场 分布 控制 装置 方法 设备 计算机 存储 介质 | ||
【主权项】：
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