[发明专利]一种波导结构的参数优化方法有效
| 申请号： | 202110161344.0 | 申请日： | 2021-02-05 |
| 公开（公告）号： | CN112987289B | 公开（公告）日： | 2022-09-20 |
| 发明（设计）人： | 杨妍;孙富君;唐波;张鹏;谢玲;李志华 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | G02B27/00 | 分类号： | G02B27/00 |
| 代理公司： | 北京辰权知识产权代理有限公司 11619 | 代理人： | 谷波 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本公开提供一种波导结构的参数优化方法，方法包括：通过获取目标光刻工艺的特征尺寸；根据预设优化算法对波导结构的宽度渐变结构进行参数优化，得到优化结果，所述优化结果包括预设数量的优化点；根据所述特征尺寸调整所述预设数量，继续根据预设优化算法对所述宽度渐变结构进行参数优化，直至满足预设条件后结束参数优化；所述预设条件包括：优化结果中相邻优化点之间宽度差值大于等于所述特征尺寸，且优化点的数量大于等于预设阈值，相比于现有技术，采用本公开参数优化方法设计制作的波导结构，能够达到更小的插损和串扰，并且仅采用一层刻蚀，简化了制作工艺。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 波导 结构 参数 优化 方法 | ||
【主权项】：
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