[发明专利]载置台、等离子体处理装置以及等离子体处理方法在审
| 申请号： | 202110172280.4 | 申请日： | 2021-02-08 |
| 公开（公告）号： | CN113284784A | 公开（公告）日： | 2021-08-20 |
| 发明（设计）人： | 池田太郎;川上聪;田中澄 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;张会华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种载置台、等离子体处理装置以及等离子体处理方法。期待能够在基板的边缘附近高效地产生等离子体的载置台、等离子体处理装置以及等离子体处理方法。在一个例示性的实施方式中，提供一种具有载置面的载置台。该载置台的特征在于，载置台具有厚度，包括埋设有高频电极的载置台主体，载置台主体包含陶瓷，高频电极在载置面的外周部下方区域沿上述的厚度的方向延伸。 | ||
| 搜索关键词： | 载置台 等离子体 处理 装置 以及 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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