[发明专利]一种光学扩散膜及其制备方法、背光模组在审
| 申请号： | 202110173751.3 | 申请日： | 2021-02-06 |
| 公开（公告）号： | CN112965151A | 公开（公告）日： | 2021-06-15 |
| 发明（设计）人： | 李虹华;李思升 | 申请（专利权）人： | 四川兆纪光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/02 | 分类号： | G02B5/02;G02F1/13357;G02B6/00 |
| 代理公司： | 成都市集智汇华知识产权代理事务所(普通合伙) 51237 | 代理人： | 沈璐蓓 |
| 地址： | 635000 四川省达*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开一种光学扩散膜及其制备方法、背光模组，所述光学扩散膜由上至下依次包括：第一扩散层、基材层和第二扩散层；所述第二扩散层和所述第一扩散层内设置有助扩散粒子和扩散粒子，所述第二扩散层中助扩散粒子和扩散粒子含量大于所述第一扩散层中助扩散粒子和扩散粒子含量，所述第二扩散层中助扩散粒子和扩散粒子的粒径小于所述第一扩散层中助扩散粒子和扩散粒子的粒径；光学扩散膜光线透过率高，扩散效果好，能增大光线的辐照面积，降低背光模组厚度，背光模组出光均匀。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光学 扩散 及其 制备 方法 背光 模组 | ||
【主权项】：
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