[发明专利]工件台结构及包含该结构的光刻系统及其曝光方法在审
| 申请号： | 202110174678.1 | 申请日： | 2021-02-08 |
| 公开（公告）号： | CN112965343A | 公开（公告）日： | 2021-06-15 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 上海度宁科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海大邦律师事务所 31252 | 代理人： | 陈丹枫 |
| 地址： | 200000 上海市浦东新区自*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及工件台结构及包含该结构的光刻系统及其曝光方法，其中所述工件台结构包括第一承载平台以及与所述第一承载平台连接的运动组件，通过运动组件实现所述第一承载平台沿预设轨迹运动，以实现承载于第一承载平台的待曝光样品在运动中被曝光。本发明还涉及一种光刻系统，包括上述工件台结构以及三轴运动机构及与三轴运动机构连接的曝光机构，工件台结构控制所述第一承载平台沿预设扫描运动方向旋转运动，三轴运动机构控制所述曝光机构根据工件台结构的预设扫描运动方向对所述待曝光样品进行曝光。本发明工件台可以实现沿圆周方向进行运动，使整个工件台的空间使用面积大大减少，有效提升了空间利用率，并且降低了硬件成本。 | ||
| 搜索关键词： | 工件 结构 包含 光刻 系统 及其 曝光 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海度宁科技有限公司，未经上海度宁科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202110174678.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
