[发明专利]包括垂直堆叠的有源SOI器件的带隙基准电路在审

专利信息
申请号: 202110175990.2 申请日: 2021-02-09
公开(公告)号: CN113380788A 公开(公告)日: 2021-09-10
发明(设计)人: D·R·布莱克威尔;P·P·杭;V·托恩-塔特;T·S·米勒 申请(专利权)人: 格芯(美国)集成电路科技有限公司
主分类号: H01L27/06 分类号: H01L27/06;G05F3/26
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 贺月娇;杨晓光
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及包括垂直堆叠的有源SOI器件的带隙基准电路。本公开的实施例提供了一种带隙基准电路,包括:第一垂直堆叠结构和第二垂直堆叠结构,该第一垂直堆叠结构和第二垂直堆叠结构各自包括:P型衬底;P阱区,其位于P型衬底内;N型势垒区,其位于P型衬底和P阱区之间,P阱区和N型势垒区形成PN结;场效应晶体管(FET),其位于P阱区上方,通过掩埋绝缘体层而与P阱区分隔开,P阱区形成FET的背栅;以及第一电压源,其耦接到P阱并向在P阱区和N型势垒区之间的PN结处形成的二极管施加正向偏置。
搜索关键词: 包括 垂直 堆叠 有源 soi 器件 基准 电路
【主权项】:
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