[发明专利]视场光阑位置测量装置及测量方法有效
| 申请号： | 202110178846.4 | 申请日： | 2021-02-09 |
| 公开（公告）号： | CN114909989B | 公开（公告）日： | 2023-06-30 |
| 发明（设计）人： | 李天鹏;王彩红 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/00 | 分类号： | G01B11/00 |
| 代理公司： | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人： | 王宏婧 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种视场光阑位置测量装置及测量方法，视场光阑位置测量装置包括：反射光探测单元，包括探测光源和成像探测器，探测光源用于从反射光探测单元的探测面发出探测光，成像探测器用于探测成像于探测面内的被测视场光阑的边界轮廓像以及测量不同高度下边界轮廓像的边界锐利度；第一移动单元，用于带动反射光探测单元移动；第一成像单元，设置于反射光探测单元和被测视场光阑之间；以及，探测光反射单元，设置于被测视场光阑的远离第一成像单元的一侧，用于反射探测光，以使得将被测视场光阑的边界轮廓成像于探测面内。本发明的技术方案能够提高空间适应性以及降低光源的设计需求，降低了成本。 | ||
| 搜索关键词： | 视场 光阑 位置 测量 装置 测量方法 | ||
【主权项】：
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