[发明专利]离子径迹多孔膜及其物理制备方法与应用有效

专利信息
申请号: 202110180823.7 申请日: 2021-02-08
公开(公告)号: CN112973458B 公开(公告)日: 2022-12-27
发明(设计)人: 段敬来;徐国恒;胡正国 申请(专利权)人: 中国科学院近代物理研究所
主分类号: B01D67/00 分类号: B01D67/00;B01D69/02
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 代理人: 关畅
地址: 730000 甘*** 国省代码: 甘肃;62
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摘要: 发明公开了一种离子径迹多孔膜及其制备方法与应用。该方法包括:将膜材料进行离子辐照和拉伸,而得;所述辐照能够使所述膜材料的辐照区域材料发生微观结构损伤,且所述辐照区域材料的力学强度低于所述膜材料本体;所述拉伸能够使所述膜材料的辐照区域材料的结构转化为孔道。该制备方法具有方法简单、不使用化学试剂和紫外光、膜材料种类选择多、孔密度选择范围宽以及孔径均匀等优点。该方法制得的离子径迹多孔膜具有良好的离子选择性和通量。
搜索关键词: 离子 径迹 多孔 及其 物理 制备 方法 应用
【主权项】:
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