[发明专利]用于霍尔效应器件的半导体堆叠有效

专利信息
申请号: 202110184346.1 申请日: 2021-02-10
公开(公告)号: CN113270541B 公开(公告)日: 2023-06-06
发明(设计)人: 何冠霆;L·巴尔比 申请(专利权)人: 迈来芯电子科技有限公司
主分类号: H10N52/85 分类号: H10N52/85;H10N52/80;H10N52/01
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 李炜;黄嵩泉
地址: 瑞士*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本申请公开了用于霍尔效应器件的半导体堆叠。一种用于霍尔效应器件的半导体堆叠(100),包括:底部势垒(140),该底部势垒(140)包括AlxGa1‑xAs;沟道(130),该沟道(130)包括InyGa1‑yAs,该沟道(130)在该底部势垒(140)上;沟道势垒(120),该沟道势垒(120)具有至少2nm且小于或等于15nm的厚度,并且该沟道势垒(120)至少包括第一层(121),该第一层(121)包括AlzGa1‑zAs,其中0.1≤z≤0.22,其中该第一层(121)具有至少2nm的厚度,其中该底部势垒(140)和该第一层(121)的导带底高于该沟道(130)的导带底;掺杂层(112),该掺杂层(112)包括成分Al、Ga和As并且掺杂有n型材料;顶部势垒(111),该顶部势垒(111)包括成分Al、Ga和As。
搜索关键词: 用于 霍尔 效应 器件 半导体 堆叠
【主权项】:
暂无信息
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