[发明专利]具有器件辅助图形的版图的OPC修正方法在审

专利信息
申请号: 202110196852.2 申请日: 2021-02-22
公开(公告)号: CN112987489A 公开(公告)日: 2021-06-18
发明(设计)人: 陈燕鹏;于世瑞 申请(专利权)人: 上海华力集成电路制造有限公司
主分类号: G03F1/36 分类号: G03F1/36
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人: 郭四华
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种具有器件辅助图形的版图的OPC修正方法,包括:步骤一、提供具有器件辅助图形的初始版图,在器件辅助图形中选取特征器件辅助图形,在初始版图中截取包含了所选取的特征器件辅助图形的特征子版图,对特征子版图进行OPC修正形成掩模板子图层;步骤二、对初始版图中的特征器件辅助图形进行图形匹配并将匹配到的特征辅助图形都替换为掩模板子图层并生成第一掩模板图层;步骤三、对初始版图中和第一掩模板图层未接触的主图形和器件辅助图形进行OPC修正形成第二掩模板图层,将第一掩模板图层和所述第二掩模版图层进行合并形成最终掩模板图层。本发明能简化器件辅助图形的OPC修正过程并同时保证OPC修正的准确性。
搜索关键词: 具有 器件 辅助 图形 版图 opc 修正 方法
【主权项】:
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