[发明专利]具有器件辅助图形的版图的OPC修正方法在审
申请号: | 202110196852.2 | 申请日: | 2021-02-22 |
公开(公告)号: | CN112987489A | 公开(公告)日: | 2021-06-18 |
发明(设计)人: | 陈燕鹏;于世瑞 | 申请(专利权)人: | 上海华力集成电路制造有限公司 |
主分类号: | G03F1/36 | 分类号: | G03F1/36 |
代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人: | 郭四华 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种具有器件辅助图形的版图的OPC修正方法,包括:步骤一、提供具有器件辅助图形的初始版图,在器件辅助图形中选取特征器件辅助图形,在初始版图中截取包含了所选取的特征器件辅助图形的特征子版图,对特征子版图进行OPC修正形成掩模板子图层;步骤二、对初始版图中的特征器件辅助图形进行图形匹配并将匹配到的特征辅助图形都替换为掩模板子图层并生成第一掩模板图层;步骤三、对初始版图中和第一掩模板图层未接触的主图形和器件辅助图形进行OPC修正形成第二掩模板图层,将第一掩模板图层和所述第二掩模版图层进行合并形成最终掩模板图层。本发明能简化器件辅助图形的OPC修正过程并同时保证OPC修正的准确性。 | ||
搜索关键词: | 具有 器件 辅助 图形 版图 opc 修正 方法 | ||
【主权项】:
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
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G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备