[发明专利]一种AlGaInP发光二极管芯片结构有效

专利信息
申请号: 202110197610.5 申请日: 2021-02-22
公开(公告)号: CN112786757B 公开(公告)日: 2021-12-21
发明(设计)人: 吕全江;刘军林;刘桂武;乔冠军 申请(专利权)人: 江苏大学
主分类号: H01L33/40 分类号: H01L33/40
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 212013 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及半导体发光器件领域,尤其是涉及一种AlGaInP发光二极管结构。本发明采用N型GaxIn1‑xP欧姆接触层(0.4≤x≤0.6)代替N型GaAs欧姆接触层。GaxIn1‑xP(0.4≤x≤0.6)材料与GaAs衬底具有很好的晶格匹配性,禁带宽度较大,对红光有较好的透明性,并且与GaAs有很好的选择腐蚀性,在制造芯片过程中也可以看到P面的图形而无需开窗工艺。而且,通过合理的掺杂设计,可以很好的与N电极形成良好的欧姆接触,保证较低的工作电压。在外延生长过程中,可在缓冲层生长后直接生长N型GaxIn1‑xP欧姆接触层(0.4≤x≤0.6),然后生长N型层,与现有工艺相比更加简单,成本更低。
搜索关键词: 一种 algainp 发光二极管 芯片 结构
【主权项】:
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