[发明专利]等离子体处理装置、基板处理装置以及滤波器装置在审
| 申请号： | 202110199431.5 | 申请日： | 2018-06-21 |
| 公开（公告）号： | CN113013014A | 公开（公告）日： | 2021-06-22 |
| 发明（设计）人： | 林大辅;金子健吾;小泉克之 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01J37/24 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种等离子体处理装置、基板处理装置以及滤波器装置，能够减少针对噪声的每个频率重新制作滤波器的功夫。滤波器(102(1))具有空芯线圈(104(1))、外导体以及可动件(120(1)～120(4))。空芯线圈具有固定的口径和固定的线圈长度。外导体为筒形，收容或包围空芯线圈，与空芯线圈组合而形成以多个频率进行并联谐振的分布常数线路。可动件配置于一个或多个有效区间内，用于变更空芯线圈的各个卷线间隙，所述有效区间是在滤波器的频率‑阻抗特性中使特定的一个或多个并联谐振频率向高频区域侧或低频区域侧产生移位的区间。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 以及 滤波器 | ||
【主权项】：
暂无信息
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