[发明专利]一种碳化硅单晶抛光液及其使用方法在审
| 申请号： | 202110199487.0 | 申请日： | 2021-02-23 |
| 公开（公告）号： | CN112920717A | 公开（公告）日： | 2021-06-08 |
| 发明（设计）人： | 姚恒;李光 | 申请（专利权）人： | 中山荣拓智能装备有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;B24B29/02 |
| 代理公司： | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人： | 伍传松 |
| 地址： | 528400 广东省中*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种碳化硅单晶抛光液及其使用方法。本发明的碳化硅单晶抛光液包括以下原料：过氧化氢、磨料和助剂；其中，所述磨料由二氧化硅、氧化铝和金刚石微粉构成；所述二氧化硅的粒径为10nm～30nm；所述氧化铝的粒径为50nm～100nm；所述金刚石微粉的粒径为小于0.25μm。该抛光液利用不同粒度的抛光磨料，实现了对碳化硅单晶表面的有效抛光，实现了碳化硅单晶表面粗糙度Ra均达到亚纳米级。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 碳化硅 抛光 及其 使用方法 | ||
【主权项】：
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