[发明专利]流体处理装置在审
申请号: | 202110202086.6 | 申请日: | 2021-02-23 |
公开(公告)号: | CN113351262A | 公开(公告)日: | 2021-09-07 |
发明(设计)人: | 渡部康裕;铃木诚一郎 | 申请(专利权)人: | 恩普乐股份有限公司 |
主分类号: | B01L3/00 | 分类号: | B01L3/00;B01J19/00;B81B1/00;B81C3/00 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 杨芳;臧建明 |
地址: | 日本埼玉*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及流体处理装置。流体处理装置具有基板和与所述基板的一个面粘接的薄膜。所述基板具有:用于供样本流动的样本流路槽;用于供分散剂流动的分散剂流路槽;分散液生成凹部,用于形成分散液生成部,所述分散液生成部与所述样本流路及所述分散剂流路连接,并用于将所述样本利用所述分散剂分离来生成所述样本的液滴分散于所述分散剂中的分散液;以及分散液流路槽,用于形成分散液流路,所述分散液流路与所述分散液生成部连接,并用于供所述分散液流动。所述薄膜在与所述样本流路槽、所述分散剂流路槽、所述分散液生成凹部以及所述分散液流路槽相对的部分含有由包覆件包覆着的粘接剂。 | ||
搜索关键词: | 流体 处理 装置 | ||
【主权项】:
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