[发明专利]一种基于硅基载板的化合物半导体晶圆正面加工方法在审

专利信息
申请号: 202110204734.1 申请日: 2021-02-23
公开(公告)号: CN113013063A 公开(公告)日: 2021-06-22
发明(设计)人: 严立巍;符德荣;文锺;陈政勋;李景贤 申请(专利权)人: 绍兴同芯成集成电路有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L21/02;H01L21/683
代理公司: 北京同辉知识产权代理事务所(普通合伙) 11357 代理人: 饶富春
地址: 312000 浙江省绍兴市越城区*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明属于半导体制造领域,公开一种基于硅基载板的化合物半导体晶圆正面加工方法,包括以下步骤:S1、通过蚀刻或磨边制作在化合物半导体基板正面边缘进行缓坡处理;S2、将多个化合物半导体基板背面永久键合在硅基载板上;S3、完成化合物半导体基板正面的晶圆制程;S4、将化合物半导体基板正面暂时键合玻璃载板,去除硅基载板并完成化合物半导体基板背面减薄,再进行后续的晶圆背面制程。本发明运用将小尺寸化合物半导体基板永久性键合于硅基载板上,实现了利用现行的主力尺寸硅片的生产线量产化合物半导体元件,可以一次进行多片化合物半导体晶圆的制造,提高了化合物半导体晶圆的产线效益。
搜索关键词: 一种 基于 硅基载板 化合物 半导体 正面 加工 方法
【主权项】:
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