[发明专利]一种双光束无掩模光刻系统有效
| 申请号： | 202110209817.X | 申请日： | 2021-02-24 |
| 公开（公告）号： | CN112987506B | 公开（公告）日： | 2022-04-12 |
| 发明（设计）人： | 陈冠楠;梅文辉 | 申请（专利权）人： | 中山新诺科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京汇智胜知识产权代理事务所(普通合伙) 11346 | 代理人： | 石辉;赵立军 |
| 地址： | 528437 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种双光束无掩模光刻系统。所述双光束无掩模光刻系统包括：第一和第二光源、扩束匀化单元(2)、光场调制单元(3)和光束调节单元(4)，第一光源用于发射激发光；第二光源用于发射损耗光；光束调节单元(4)用于将扩束匀化单元(2)和光场调制单元(3)处理后形成的图形化平行光束阵列转化为成像平面上的像素点阵，像素点阵的非零像素点的中心为第一光束实心圆(601)、外环为第二光束中空环(602)，其中，第一光束实心圆(601)的直径大于第二光束中空环(602)的内直径，小于第二光束中空环(602)的外直径。本发明的双光束无掩模光刻系统可以缩小单个光刻点的大小，从而能够显著提高光刻分辨率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光束 无掩模 光刻 系统 | ||
【主权项】：
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