[发明专利]半导体器件和图像传感器以及制造图像传感器的方法在审

专利信息
申请号: 202110214299.0 申请日: 2021-02-25
公开(公告)号: CN113314554A 公开(公告)日: 2021-08-27
发明(设计)人: 谢丰键;李国政;陈英豪;郑允玮 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 代理人: 章社杲;李伟
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 本申请的实施例公开了一种具有应力调整层的图像传感器及其制造方法。该图像传感器包括具有前侧表面和与前侧表面相反的背侧表面的衬底、设置在衬底的背侧表面上的抗反射涂层(ARC)、设置在ARC层上的介电层、设置在介电层上的金属层以及设置在金属层上的应力调整层。应力调整层包括富硅氧化物层。应力调整层中的硅和氧原子的浓度分布不重叠并且彼此不同。图像传感器还包括设置在应力调整层上的氧化物栅格结构。本申请的实施例还提供了一种半导体器件。
搜索关键词: 半导体器件 图像传感器 以及 制造 方法
【主权项】:
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