[发明专利]吸附装置、成膜装置、吸附方法、成膜方法及电子器件的制造方法在审
| 申请号： | 202110219949.0 | 申请日： | 2021-02-26 |
| 公开（公告）号： | CN113322444A | 公开（公告）日： | 2021-08-31 |
| 发明（设计）人： | 石井博;诸桥悟;川畑奉代;柏仓一史;富井广树;细谷映之;上田利幸 | 申请（专利权）人： | 佳能特机株式会社;阿奥依株式会社;株式会社沙迪克 |
| 主分类号： | C23C14/50 | 分类号： | C23C14/50;C23C14/24;C23C14/04;C23C14/56;C23C14/54;H01L21/683;H01L51/56 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 邓宗庆 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及吸附装置、成膜装置、吸附方法、成膜方法及电子器件的制造方法。使静电吸盘良好地吸附被吸附体。本发明的吸附装置的特征在于，具有：支撑单元，所述支撑单元支撑被吸附体的第一主面的周缘部，所述被吸附体具有所述第一主面和该第一主面的相反侧的第二主面；吸附部件，所述吸附部件从所述被吸附体的所述第二主面侧吸附所述被吸附体；以及多个推压构件，所述多个推压构件用于从所述被吸附体的所述第二主面侧推压所述被吸附体，所述多个推压构件分别配置在与所述被吸附体的所述第二主面具有的多个角部中的至少两个角部对应的位置。 | ||
| 搜索关键词： | 吸附 装置 方法 电子器件 制造 | ||
【主权项】：
暂无信息
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