[发明专利]显影处理装置和显影处理方法在审
| 申请号： | 202110220216.9 | 申请日： | 2021-02-26 |
| 公开（公告）号： | CN113311672A | 公开（公告）日： | 2021-08-27 |
| 发明（设计）人： | 田中公一朗;福田昌弘 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/30 | 分类号： | G03F7/30 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;张会华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供显影处理装置和显影处理方法：短尺寸的第1显影液供给部和长度为俯视时基板直径以上的长尺寸的第2显影液供给部能共用接收从基板飞散的显影液的液接收部。显影处理装置对基板上的抗蚀膜进行显影，具有：基板保持部，将基板保持为水平；旋转机构，使基板保持部绕铅垂轴旋转；第1和第2显影液供给部，向基板供给显影液；以及液接收部，接收来自基板的显影液，第1显影液供给部长度为俯视时小于基板直径，第2显影液供给部长度为俯视时基板直径以上，液接收部的环状的第1和第2环状壁具有俯视时直径大于基板直径的圆状的开口，第2环状壁设于第1环状壁上方，第1和第2环状壁能彼此独立升降，第1环状壁与第2环状壁在铅垂方向上距离可变。 | ||
| 搜索关键词： | 显影 处理 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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