[发明专利]一种设计约束检查方法及装置在审
| 申请号： | 202110222347.0 | 申请日： | 2021-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN113111481A | 公开（公告）日： | 2021-07-13 |
| 发明（设计）人： | 罗彬 | 申请（专利权）人： | 新华三半导体技术有限公司 |
| 主分类号： | G06F30/20 | 分类号： | G06F30/20;G06F111/04 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 610000 四川省成都市中国（四川）自由*** | 国省代码： | 四川;51 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请提供了一种设计约束检查方法及装置，所述方法，包括：在芯片设计完成后，获取所述芯片的约束数据库，所述约束数据库包括每个设计约束的约束信息和约束条件；根据每个设计约束的约束信息和约束条件，生成该设计约束的约束检查函数；在所述芯片需要进行检查时，调用每个约束检查函数对所述芯片进行检查，以检查所述芯片是否满足所述芯片对应的设计约束。由此实现了芯片的设计约束检查，而且避免因芯片的SDK软件设计的遗漏而导致的设计约束的遗漏。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 设计 约束 检查 方法 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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