[发明专利]用于对试样的以荧光记号标记的结构高分辨率成像的方法和设备在审
| 申请号： | 202110222595.5 | 申请日： | 2016-10-14 |
| 公开（公告）号： | CN113155791A | 公开（公告）日： | 2021-07-23 |
| 发明（设计）人： | A·舍恩勒;C·武尔姆;B·哈尔克;G·唐纳特 | 申请（专利权）人： | 阿贝里奥仪器有限责任公司 |
| 主分类号： | G01N21/64 | 分类号： | G01N21/64;G02B21/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 周家新 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 为了对试样的以荧光记号标记的结构进行高分辨率成像，以光强度分布加载试样，在光强度分布中，聚焦的荧光激发光的强度极大值与聚焦的荧光阻抑光的由一些强度极大值包围的强度极小值叠加成光强度分布。在此，以聚焦的荧光阻抑光的强度极小值选择性地扫描试样的感兴趣的部分区域，记录从所述试样发射的荧光以及将其与聚焦的荧光阻抑光的强度极小值在试样中的相应的位置相对应。对于聚焦的荧光阻抑光的强度极小值的相应的位置，当已记录从试样发射的荧光的预给定的最大光量时，和/或，当在预给定的时间段之内还未记录从试样发射的荧光的预给定的最小光量时，至少中断试样的以光强度分布的聚焦的荧光阻抑光的加载。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 试样 荧光 记号 标记 结构 高分辨率 成像 方法 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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