[发明专利]一种并行式双工位12轴耦合平台在审
| 申请号： | 202110233079.2 | 申请日： | 2021-03-03 |
| 公开（公告）号： | CN113044552A | 公开（公告）日： | 2021-06-29 |
| 发明（设计）人： | 刘建辉;刘俊华;蒋端元;张罗丹 | 申请（专利权）人： | 深圳中科精工科技有限公司 |
| 主分类号： | B65G47/90 | 分类号： | B65G47/90;B65G47/91;B05C5/02;B05C9/12;B05D3/06;B08B5/02 |
| 代理公司： | 深圳市广诺专利代理事务所(普通合伙) 44611 | 代理人： | 伍华荣 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市龙华区观湖街*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种并行式双工位12轴耦合平台，其包括：支架、升降平台、平行光管组件、增距镜组件、UV灯组件、六轴处理装置以及其他组件，其中升降平台内设置有光源玻璃固定件，光源玻璃固定件安装有chart；平行光管组件、增距镜组件、UV灯组件安装在升降平台内，升降平台、六轴处理装置设置在支架上；通过各个部件之间的配合能够方便地进行对超广角镜头和普通镜头的AA对焦、UV固化处理，并且通过内部软件切换模式和更换chart进行工艺切换；配合其他组件实现了在线清洗，并且兼容平面Chart及Collimator模式，提高生产效率的同时，提供了一个精准、标准的对焦环境。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 并行 双工 12 耦合 平台 | ||
【主权项】：
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