[发明专利]一种补液式磁性复合流体抛光装置有效
| 申请号： | 202110237705.5 | 申请日： | 2021-03-04 |
| 公开（公告）号： | CN112975585B | 公开（公告）日： | 2022-12-27 |
| 发明（设计）人： | 姜晨;郝宇;李帅;刘剑 | 申请（专利权）人： | 上海理工大学 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00;B24B57/02 |
| 代理公司： | 上海邦德专利代理事务所(普通合伙) 31312 | 代理人： | 王文娟 |
| 地址： | 200093 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种补液式磁性复合流体抛光装置，包括：支架、分别设置于所述支架两端的端盖与注液端端盖及与所述端盖及注液端端盖固接的连接件，所述支架通过端盖与注液端端盖进行夹紧定位；所述支架包括多个置纳块，每相邻的两个置纳块之间设置有第一置纳区，所述第一置纳区内固接有橡胶块，所述橡胶块的底面及与底面相邻的一侧面和第一置纳区之间设置有第一间隙距离；所述置纳块内开设有第一置纳槽及第二置纳槽，所述第二置纳槽靠近第一间隙距离一端面上开设有补液孔，且所述第一置纳槽中放置有永磁体。根据本发明，抛光过程中可以进行补液，补充的液体成分，可以根据实际使用环境提前配置，可以提高抛光过程的稳定性，提高抛光质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 补液 磁性 复合 流体 抛光 装置 | ||
【主权项】：
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