[发明专利]晶圆漏电流测试方法、装置、晶圆级测试仪及存储介质有效

专利信息
申请号: 202110242095.8 申请日: 2021-03-04
公开(公告)号: CN113009321B 公开(公告)日: 2022-04-08
发明(设计)人: 李创锋 申请(专利权)人: 深圳市金泰克半导体有限公司
主分类号: G01R31/28 分类号: G01R31/28
代理公司: 深圳智汇远见知识产权代理有限公司 44481 代理人: 李雪鹃;杜亚明
地址: 518000 广东省深圳市坪*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 本申请涉及一种晶圆漏电流测试方法、装置、晶圆级测试仪及存储介质,所述方法应用于晶圆,所述晶圆包括多个待测量单元,所述方法包括:获取所述晶圆上每个所述待测量单元的漏电流;根据所有所述待测量单元的漏电流,获取漏电流中位数及漏电流第一统计特征值;根据所述漏电流中位数及所述漏电流第一统计特征值,获取漏电流偏移量;根据所述漏电流中位数及所述漏电流偏移量,获取漏电流测量阈值;根据所述漏电流测量阈值筛选所述待测量单元。本申请实施例提高晶圆中芯片筛选的准确性和覆盖率,提升芯片的可靠性,降低芯片使用过程中的不良率。
搜索关键词: 漏电 测试 方法 装置 晶圆级 测试仪 存储 介质
【主权项】:
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