[发明专利]晶圆漏电流测试方法、装置、晶圆级测试仪及存储介质有效
申请号: | 202110242095.8 | 申请日: | 2021-03-04 |
公开(公告)号: | CN113009321B | 公开(公告)日: | 2022-04-08 |
发明(设计)人: | 李创锋 | 申请(专利权)人: | 深圳市金泰克半导体有限公司 |
主分类号: | G01R31/28 | 分类号: | G01R31/28 |
代理公司: | 深圳智汇远见知识产权代理有限公司 44481 | 代理人: | 李雪鹃;杜亚明 |
地址: | 518000 广东省深圳市坪*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本申请涉及一种晶圆漏电流测试方法、装置、晶圆级测试仪及存储介质,所述方法应用于晶圆,所述晶圆包括多个待测量单元,所述方法包括:获取所述晶圆上每个所述待测量单元的漏电流;根据所有所述待测量单元的漏电流,获取漏电流中位数及漏电流第一统计特征值;根据所述漏电流中位数及所述漏电流第一统计特征值,获取漏电流偏移量;根据所述漏电流中位数及所述漏电流偏移量,获取漏电流测量阈值;根据所述漏电流测量阈值筛选所述待测量单元。本申请实施例提高晶圆中芯片筛选的准确性和覆盖率,提升芯片的可靠性,降低芯片使用过程中的不良率。 | ||
搜索关键词: | 漏电 测试 方法 装置 晶圆级 测试仪 存储 介质 | ||
【主权项】:
暂无信息
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