[发明专利]一种固结磨料抛光垫及易潮解KDP晶体干式抛光方法有效
| 申请号： | 202110246315.4 | 申请日： | 2021-03-05 |
| 公开（公告）号： | CN112959233B | 公开（公告）日： | 2022-08-16 |
| 发明（设计）人： | 李军;熊光辉;李凯旋;朱永伟;左敦稳;吴成;于宁斌 | 申请（专利权）人： | 南京航空航天大学;南京航空航天大学无锡研究院 |
| 主分类号： | B24D13/00 | 分类号： | B24D13/00;B24D3/00;B24B29/00 |
| 代理公司： | 江苏圣典律师事务所 32237 | 代理人： | 徐晓鹭 |
| 地址： | 210016 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开一种固结磨料抛光垫及易潮解KDP晶体干式抛光方法，抛光方法为采用固结磨料抛光垫抛光KDP晶体、不使用液体抛光介质的干式固结磨料抛光，固结磨料抛光垫包含有磨粒、反应物、催化剂、固化剂和结合剂。抛光垫中反应物与KDP晶体发生固相化学反应，生成的过渡层在磨粒的机械作用下被去除，获得光滑表面。本发明解决了KDP晶体易潮解的问题，提高了KDP晶体的加工效率，简化了KDP晶体抛光工艺，同时还有环境友好，成本低等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 固结 磨料 抛光 潮解 kdp 晶体 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南京航空航天大学;南京航空航天大学无锡研究院，未经南京航空航天大学;南京航空航天大学无锡研究院许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202110246315.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种环保型钛基高分子合金防腐胶泥
- 下一篇：一种细胞株及其制备方法和用途
