[发明专利]用于制造发光物质颗粒的方法有效
| 申请号： | 202110246403.4 | 申请日： | 2017-03-01 |
| 公开（公告）号： | CN113073308B | 公开（公告）日： | 2023-02-21 |
| 发明（设计）人： | 索尼娅·特拉格尔;蒂姆·菲德勒;弗兰克·耶尔曼 | 申请（专利权）人： | 欧司朗光电半导体有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455;C23C16/50;C23C16/56;C23C16/40;C23C16/34;C23C16/30;C09K11/77 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 丁永凡;周涛 |
| 地址： | 德国雷*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提出一种用于制造发光物质颗粒的方法，发光物质颗粒具有至少一个第一保护层，包括下述方法步骤：提供发光物质颗粒，通过酸溶液处理含硅和/或含铝的发光物质颗粒，使得含硅的第二保护层形成在发光物质颗粒的表面上，所述含硅的第二保护层与发光物质颗粒相比具有更高含量的硅，和/或含铝的第二保护层形成在所述发光物质颗粒的表面上，所述含铝的第二保护层与发光物质颗粒相比在所述表面上具有变化的铝含量，借助于原子层沉积将至少一个第一保护层施加到发光物质颗粒的表面上，其中方法步骤包括下述方法步骤：借助于原子层沉积将第一起始化合物沉积在发光物质颗粒的表面上，借助于原子层沉积将第二起始化合物沉积在发光物质颗粒的表面上。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 制造 发光 物质 颗粒 方法 | ||
【主权项】：
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
