[发明专利]一种等离子表面清洁装置在审
申请号: | 202110247600.8 | 申请日: | 2021-03-06 |
公开(公告)号: | CN112820619A | 公开(公告)日: | 2021-05-18 |
发明(设计)人: | 高佳 | 申请(专利权)人: | 东莞市峰谷纳米科技有限公司 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32 |
代理公司: | 广州市一新专利商标事务所有限公司 44220 | 代理人: | 刘兴耿 |
地址: | 523000 广东省东莞*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明是一种等离子表面清洁装置,包括主机体,所述主机体一侧设有真空泵组,所述主机体两端还设有惰性气体箱及活性气体箱,所述惰性气体箱与所述活性气体箱一侧分别设有高压电源及电控箱,所述惰性气体箱与所述活性气体箱通过管道与所述主机体相通,所述主机体内部中空形成腔体,本发明中采用石墨作为电极对活性气体与惰性气体进行电离,石墨电极与活性气体反应后生成气体,不会对被清洗半导体表面造成残留;被清洗零件以转动的方式进入不同氛围进行清洗,大幅度提升了清洗效果,而且结构简单,使用方便;被清洗零件可以转动,能够使被清洗零件的不同位置直面等离子体,确保零件表面被清洗干净。 | ||
搜索关键词: | 一种 等离子 表面 清洁 装置 | ||
【主权项】:
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