[发明专利]抛光垫及研磨装置有效
| 申请号： | 202110249345.0 | 申请日： | 2021-03-08 |
| 公开（公告）号： | CN113084696B | 公开（公告）日： | 2022-05-06 |
| 发明（设计）人： | 高林 | 申请（专利权）人： | 长江存储科技有限责任公司 |
| 主分类号： | B24B37/26 | 分类号： | B24B37/26;B24B37/10;B24B7/22 |
| 代理公司： | 北京成创同维知识产权代理有限公司 11449 | 代理人： | 蔡纯;岳丹丹 |
| 地址： | 430074 湖北省武汉*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 公开了一种抛光垫及研磨装置，抛光垫包括：多个贯穿所述抛光垫的通孔，其中，所述多个通孔均匀分布在所述抛光垫的中心周围；凹槽，位于所述抛光垫背向晶圆的第二表面上，将所述多个通孔连通。本申请中通过在以抛光垫的中心为圆心，半径为R的圆区域内增加通孔的数量，以及均匀分布多个通孔，从而使得在晶片抛光过程中，晶片的表面能够均匀的接触研磨液，提高了晶片的平坦化程度和抛光效果。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 研磨 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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