[发明专利]使用双自由层的磁传感器电桥在审

专利信息
申请号: 202110254168.5 申请日: 2021-03-09
公开(公告)号: CN113848517A 公开(公告)日: 2021-12-28
发明(设计)人: 刘小勇;Q·勒;Z·白;D·毛里;Z·李;K·S·胡;T·A·阮;R·纳加比拉瓦 申请(专利权)人: 西部数据技术公司
主分类号: G01R33/09 分类号: G01R33/09;G01R33/00
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 代理人: 徐东升
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明题为“使用双自由层的磁传感器电桥”。本公开整体涉及利用双自由层(DFL)结构的传感器装置,诸如磁传感器电桥。该装置包括多个电阻器,每个电阻器包括相同的DFL结构。与DFL结构相邻的是磁性结构,该磁性结构可包括永磁体、其上具有合成AFM(SAF)结构的反磁铁(AFM)层、其上具有SAF结构的永磁体或者其上具有铁磁层的AFM层。DFL结构与磁性结构的不同层对准以区分电阻器。不同的对准和/或不同的磁性结构由于降低的复杂性而减少了生产时间,从而降低了成本。
搜索关键词: 使用 自由 传感器 电桥
【主权项】:
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