[发明专利]遮光带版图绘制方法、光罩版图绘制方法及光罩版图有效
| 申请号： | 202110254749.9 | 申请日： | 2021-03-05 |
| 公开（公告）号： | CN112949242B | 公开（公告）日： | 2023-07-25 |
| 发明（设计）人： | 王悦 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G06F30/392 | 分类号： | G06F30/392;G06F30/398;G06F111/20 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 远明 |
| 地址： | 518132 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请实施例公开了一种遮光带版图绘制方法、光罩版图绘制方法及光罩版图。遮光带版图绘制方法包括：获取遮光带版图的绘制配置信息，绘制配置信息包括绘制原始版图标识、遮光带版图的绘制范围的尺寸信息；调用版图数据库，版图数据库包括至少一绘制原始版图和与绘制原始版图对应的绘制原始版图标识；根据绘制原始版图标识在版图数据库中确定绘制原始版图；根据绘制原始版图设定第一空心阵列组；根据第一空心阵列组、绘制范围的尺寸信息确定绘制范围；根据第一空心阵列组和绘制范围生成遮光带版图。本申请实施例可以自动化快速绘制遮光带版图，减小了现有遮光带版图绘制中的繁琐步骤。 | ||
| 搜索关键词： | 遮光 版图 绘制 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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