[发明专利]一种镀膜方法及镀膜设备在审
申请号: | 202110254976.1 | 申请日: | 2021-03-05 |
公开(公告)号: | CN113046730A | 公开(公告)日: | 2021-06-29 |
发明(设计)人: | 盛兆亚;宋文庆;王凯;张建飞 | 申请(专利权)人: | 立讯电子科技(昆山)有限公司 |
主分类号: | C23C16/52 | 分类号: | C23C16/52;C23C16/458 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 刘臣刚 |
地址: | 215324 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种镀膜方法及镀膜设备,其属于镀膜技术领域,镀膜方法包括初始化步骤,对镀膜设备的治具架上多个位置进行编码标定分配相应编号;进行多次循环步骤;该循环步骤包括:依次检测每个编号位置处的产品的编号位置膜厚,得到多个编号位置膜厚,并得到多个编号位置膜厚的平均膜厚;根据平均膜厚及每个编号位置对应的编号位置膜厚,得到每个编号位置的膜厚差值;根据每个编号位置的膜厚差值及预设算法,得到每个编号位置对应的旋转速度;在预设编号位置经过镀膜设备的预设部分时,控制治具架以预设编号位置对应的旋转速度旋转,直至遍历所有编号位置。本发明能使每个编号位置的产品的膜层厚度达到一致,以提高镀膜厚度的均匀性。 | ||
搜索关键词: | 一种 镀膜 方法 设备 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的