[发明专利]蒸镀源单元、蒸镀源和蒸镀源用喷嘴在审
| 申请号： | 202110255176.1 | 申请日： | 2021-03-09 |
| 公开（公告）号： | CN113373411A | 公开（公告）日： | 2021-09-10 |
| 发明（设计）人： | 塩野忠久;长田佑介;金子滉明;若林雅;铃木裕二 | 申请（专利权）人： | 株式会社昭和真空;株式会社V技术 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/04 |
| 代理公司： | 北京市浩天知识产权代理事务所(普通合伙) 11276 | 代理人： | 张瑛 |
| 地址： | 日本神奈川*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供一种能够在确保蒸发的蒸镀材料的指向性的同时保持较高的成膜速率的蒸镀源单元、蒸镀源和蒸镀源用喷嘴。蒸镀源单元(1)是一种使蒸镀材料蒸镀到基板的表面上的蒸镀源单元(1)，其具有包括喷出口(21)的喷嘴(20)，所述喷出口(21)喷出加热的蒸镀材料，喷嘴(20)上形成有沿与该喷嘴(20)的延伸方向相同方向延伸的多个孔(20a)，该多个孔(20a)的一端部在喷出口(21)开口，孔(20a)的纵横比为2以上，孔(20a)的长度为分子的平均自由行程的1/5以下。 | ||
| 搜索关键词： | 蒸镀源 单元 蒸镀源用 喷嘴 | ||
【主权项】：
暂无信息
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