[发明专利]针对多个图形生成飞切轨迹的方法、处理器、设备和介质有效
申请号: | 202110257975.2 | 申请日: | 2021-03-09 |
公开(公告)号: | CN112989516B | 公开(公告)日: | 2022-12-06 |
发明(设计)人: | 代田田;张维维;陈明毅 | 申请(专利权)人: | 上海柏楚电子科技股份有限公司 |
主分类号: | G06F30/17 | 分类号: | G06F30/17 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 汪骏飞;侯颖媖 |
地址: | 200241 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及针对多个图形生成飞切轨迹的方法、处理器、设备和介质。该方法包括以下步骤:获取包含多个图形的图像数据并设置飞切参数;针对多个图形中的每个图形确定特征点以生成多个特征点;对多个特征点进行排序;根据多个特征点的顺序设置多个图形的切割顺序并且计算每个图形的推荐点,每个图形的推荐点是该图形上距离下一个图形最近的点;以及根据切割顺序和推荐点确定飞切轨迹,飞切轨迹包括对应于每个图形的轮廓的切割轨迹以及用于连接先后切割的两个图形的过渡线,过渡线避开按照切割顺序在过渡线之前的所有图形的内部。 | ||
搜索关键词: | 针对 图形 生成 轨迹 方法 处理器 设备 介质 | ||
【主权项】:
暂无信息
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